MS-75                         

Оптическая схема

вертикально-симметричная схема Эберта

Фокусное расстояние, мм

75

Относительное отверстие (d/f)

1/6

Ширина входной щели, мкм

Фиксированный размер, от 20 и более

Дифракционная решетка, штр/мм
(I порядок)

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

Спектральное разрешение, нм

Одновременно регистрируемый спектральный интервал, нм

Рабочий диапазон, нм

600

21.9

0.9

625

190-1000

1200

10.4

0.4

295

190-1000

1800

6.4

0.26

180

190-900

2400

4.8

0.2

140

190-650

3600

3.0

0.12

85

190-450

MS-120                               

Оптическая схема

вертикально-симметричная схема Эберта

Фокусное расстояние, мм

120

Относительное отверстие (d/f)

1/6

Ширина входной щели, мкм

Фиксированный размер, от 20 и более;
возможна установка варьируемой щели, 0-400

дифракционная решетка, штр/мм
(I порядок)

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

Спектральное разрешение, нм

Одновременно регистрируемый спектральный интервал, нм

Рабочий диапазон, нм

300

27.7

1.1

790

190-1000

600

13.6

0.55

390

190-1000

1200

6.5

0.25

185

190-1000

1800

4.0

0.16

115

190-900

2400

3.0

0.11

85

190-650

3600

1.9

0.07

55

190-450

MS-150

Оптическая схема

вертикально-симметричная схема Эберта

Фокусное расстояние, мм

150

Относительное отверстие (d/f)

1/6

Ширина входной щели, мкм

Фиксированный размер, от 20 и более;
возможна установка варьируемой щели, 0-400

Дифракционная решетка, штр/мм
(I порядок)

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

Спектральное разрешение, нм

Одновременно регистрируемый спектральный интервал, нм

Рабочий диапазон, нм

300

22.1

0.9

630

190-1000

600

10.9

0.44

310

190-1000

1200

5.2

0.21

150

190-1000

1800

3.2

0.13

90

190-900

2400

2.4

0.1

70

190-650

3600

1.5

0.06

43

190-450

MS-200

Оптическая схема

вертикально-симметричная схема Эберта

Фокусное расстояние, мм

200

Относительное отверстие (d/f)

1/9

Ширина входной щели, мкм

Фиксированный размер, от 20 и более;
возможна установка варьируемой щели, 0-400

Дифракционная решетка, штр/мм
(I порядок)

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

Спектральное разрешение, нм

Одновременно регистрируемый спектральный интервал, нм

Рабочий диапазон, нм

300

16.6

0.66

475

190-1000

600

8.2

0.33

235

190-1000

1200

3.9

0.16

110

190-1000

1800

2.4

0.1

70

190-900

2400

1.8

0.07

50

190-650

3600

1.13

0.045

32

190-450

MS-300                        

Оптическая схема

вертикально-симметричная схема Эберта

Фокусное расстояние, мм

300

Относительное отверстие (d/f)

1/14

Ширина входной щели, мкм

Фиксированный размер, от 20 и более;
возможна установка варьируемой щели, 0-400

Дифракционная решетка, штр/мм
(I порядок)

Обратная линейная дисперсия, нм/мм

Спектральное разрешение, нм

Одновременно регистрируемый спектральный интервал, нм

Рабочий диапазон, нм

300

11.1

0.44

320

190-1000

600

5.5

0.22

160

190-1000

1200

2.6

0.1

75

190-1000

1800

1.6

0.064

45

190-900

2400

1.2

0.048

35

190-650

3600

0.75

0.03

21

190-450

Примечания
* Одновременно регистрируемый спектральный интервал указан для случая использования в качестве системы регистрации CCD линейки (3648 элементов 8х200мкм). Если нужна более высокая чувствительность в области  600-900 нм – нужно использовать систему регистрации  на линейном ПЗС  LX554;  для чувствительности в области от 190 нм –нужен выбор  системы на линейном ПЗС  типа  ТСД1304DG. Со спектрографами   MS75 – MS 300  может быть состыкована  любая из вышепереречисленных систем регистрации;
* При необходимости одновременной регистрации спектров широкополосных источников света в качестве диспергирующих элементов могут устанавливаться кварцевые или стеклянные призмы двойного прохождения (схема Литрова).
* Возможны два варианта установки решеток в спектрометрах:
а) фиксированная установка, обеспечивающая регистрацию спектров в заранее выбранном спектральном интервале;
б) установка решетки в поворотном узле, позволяющем осуществлять ручную перестройку (посредством микровинта) спектрометра во всем рабочем диапазоне длин волн.